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山西的非接触式轮廓仪测量仪有什么区别?



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型号: RL118176上海晶科(光)光电分析仪WGL

上海精科(光)光电分析仪WGL

特色

由于仪器的测量精度高,非接触式和三维测量特性,以及使用计算机控制和快速分析,计算测量结果,该仪器适用于各级测试,测量和研究单位工矿企业计量室,精密加工车间,也适用于高等院校和科研单位。

■本仪器采用非接触式光学相移干涉测量法,测量时不能测量工件表面,可快速测量各种工件。

表面微观形态的固体形状,以及测量结果的计算。

■适用于测量各种量块和光学部件的粗糙度;标尺和表盘的深度

■光栅结构的光栅结构和涂层边界的结构形态

■磁(光)盘,磁头表面结构测量;硅片表面粗糙度及其上部图形结构测量。

参数名称

参数值

在连续表面上,在相邻像素之间

高度变化不大于1/4波长

1000至1纳米

在相邻的两个像素之间包括大于1/4的波长突变的高度

130至1纳米

测量可重复性

Ra 0.5nm

物镜放大

40X

数值孔径

65

工作距离

0.5毫米

仪器视野

0.25毫米

相机

0.130.13mm

仪器放大

500

相机(电脑屏幕观察)

2500

测量阵列

1000×1000

像素大小

5.25.2m

测量时间采样(扫描)时间

1S

仪器标准镜面反射率(高度)

?50%

反射率(低)

~4%

照明光源

白炽灯6V 5W

绿色干涉滤波器波长

≒530nm处

一半的宽度

≒10纳米

主显微镜升降机

110毫米

工作台升降机

5毫米

X,丫运动范围方向

~10毫米

表旋转范围

360

工作台是倾向于

6

电脑系统

P4,2。8G以上,内存1G和17英寸纯平显示屏

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光电分析仪

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